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激光刻蝕機

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激光刻蝕機

激光刻蝕機

激光刻蝕機實際上狹義理解就是光刻腐蝕,先通過光刻將光刻膠進行光刻曝光處理,然后通過其它方式實現腐蝕處理掉所需除去的部分。廣義上來講,刻蝕成了通過溶液、反應離子或其它機械方式來剝離、去除材料的一種統稱,成為微加工制造的一種普適叫法。刻蝕最簡單最常用分類是:干法刻蝕和濕法刻蝕。它們的區別就在于濕法使用溶劑或溶液來進行刻蝕。
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小型臺式無掩膜光刻系統

小型臺式無掩膜光刻系統

  • 品牌: 英國Durham Magneto Optic
  • 型號: Microwriter ML3
  • 產地:英國
  • 供應商:QUANTUM量子科學儀器貿易(北京)有限公司

    Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統,具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

海德堡掩膜版光刻機 VPG+ 200/400

海德堡掩膜版光刻機 VPG+ 200/400

德國Heidelberg μPG 101 激光掩膜繪圖機

德國Heidelberg μPG 101 激光掩膜繪圖機

德國Heidelberg Heidelberg DWL 66+ 無掩模直寫機

德國Heidelberg Heidelberg DWL 66+ 無掩模直寫機

德國海德堡Heidelberg DWL 8000 高級大型2D,3D直寫設備

德國海德堡Heidelberg DWL 8000 高級大型2D,3D直寫設備

  • 品牌: 德國海德堡
  • 型號: DWL 8000
  • 產地:德國
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    搭配海德堡的精密軟件控制可以讓您在大面積范圍中,也可以瞄寫2維和3維圖形的DWL 8000系列,是針對微光學領域的2維和3維的微構造形式所制作。 對于激光圖形生成器,MEMS,Displays 和sensors 都有加寬,加高的設計。DWL 8000精確的溫度控制,動態的焦點追蹤,closed loop位置決定,確保完美布置和完全覆蓋性的直寫范圍。 DWL 8000多年的經驗累積,使Gray Scale曝光技術,可以更有效率于更小的系統上直寫更大的區域范圍。在使用高分辨率技術掩模板上,使用曝光強度經過調整的激光,可在連續表面上形成1個復雜的3維樣式。

德國海德堡掩膜版光刻機VPG+ 800/1100/1400

德國海德堡掩膜版光刻機VPG+ 800/1100/1400

德國海德堡VPG 1600 終極型大尺寸掩膜版光刻機

德國海德堡VPG 1600 終極型大尺寸掩膜版光刻機

  • 品牌: 德國海德堡
  • 型號: VPG 1600
  • 產地:德國
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    VPG 設計有可以搭載多樣化不同尺寸的承載平臺,例如:1600mm*1400mm,1100mm*1100mm,800mm*800mm. 但這些系統都安裝有氣浮裝置,可配置半自動或者全自動的上下版裝置,并且可以選擇zui高輸出功率20W的UV激光發射頭。

德國Heidelberg MLA 100 激光光刻機

德國Heidelberg MLA 100 激光光刻機

德國Heidelberg MLA 150 激光光刻機

德國Heidelberg MLA 150 激光光刻機

德國Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統

德國Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統

  • 品牌: 瑞士Eulitha
  • 型號: PhableR 100
  • 產地:德國
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    PhableR 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統,但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統的紫外曝光機類似,涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術,在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵(六角形和正方形),且曝光結果非常均勻,質量很 好;在"mask aligner"模式下,能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。

瑞典Mycronic 掩膜計量系統Prexision-MMS

瑞典Mycronic 掩膜計量系統Prexision-MMS

  • 品牌: 瑞典Mycronic
  • 型號: Prexision-MMS
  • 產地:瑞典
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    · 最新的創新性Prexision平臺具備優異的精準度與可重復性 · 用我們的專利技術改善配準測量。 · 因為第 一次測量的結果精確無誤,這大大給您節省了周轉時間。 · 充分發揮我們的Prexision光刻機的潛力。

瑞典MYCRONIC光刻機

瑞典MYCRONIC光刻機

Durham Microwriter ML3 無掩膜光刻機

Durham Microwriter ML3 無掩膜光刻機

Nikon NSR 1755i7B 6英寸分步重復光刻機

Nikon NSR 1755i7B 6英寸分步重復光刻機

  • 品牌: 日本尼康
  • 型號: NSR 1755i7B
  • 產地:日本
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    把掩膜版上的圖形按照一定的比例縮小復制到涂布有光刻膠的晶圓上,分區域進行步進式曝光。本機臺可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圓高精度投影曝光,曝光精度可達500nm。基本指標1. RESOLUTION:0.5μm2. LENS DISTORTION:≤0.9μm3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY:≤0.02μm4. STEPPING ACCURACY:≤0.08μm 5. OVERLAY ACCURACY:≤0.15μm(X,Y)6. OPEN FLAME(MAX. EXPOSURE AREA):17.5×17.5mm

Nikon G-line步進光刻機: NSR-1755G7

Nikon G-line步進光刻機: NSR-1755G7

Nikon NSR-I12 I線步進式光刻機

Nikon NSR-I12 I線步進式光刻機

  • 品牌: 日本尼康
  • 型號: Nikon NSR-I12
  • 產地:日本
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    I線步進式光刻機 / I-line stepper,型號:Nikon NSR-I12技術指標及功能廣泛應用于生產線,是6英寸,8英寸等主力I線生產機臺,適用于I線光刻膠的曝光,操作簡單,曝光精度準,解析力zui高可達0.35UM (350NM)

美OAI光刻機Model 200, 800MBA, 5000, 2000

美OAI光刻機Model 200, 800MBA, 5000, 2000

  • 品牌: 美國OAI
  • 型號: Model 200, 800MBA, 5000, 2000
  • 產地:美國
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    美國 OAI 光刻機:Model  200 手動曝光機,實驗室用 ,Model 800MBA 雙面曝光機, 實驗室及小批量生產,Model  2000 全自動邊緣曝光系統,生產型Model  5000 全自動曝光機,生產型OAI 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器,采用經過行業驗證的組件,使OAI成為光刻設備行業的領 導者。 200型是臺式面罩對準器,需要最小的潔凈室空間。它為研發,或有限規模,試點生產提供了經濟的替代方案。利用創新的空氣軸承/真空吸盤調平系統,襯底快速平穩地平整,用于平行光掩模對準和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統能夠實現一微米分辨率和對準精度。對準模塊具有掩模插入件組和快速更換晶片卡盤,其便于使用各種襯底和掩模,而不需要用于重新配置的特殊工具。對準模塊包括X,Y和Z軸的微米。200型掩模對準器具有可靠的OAI紫外光源,其在近紫外或深紫外中提供準直的紫外光,使用功率從200至2000瓦的燈。雙傳感器,光學反饋回路連接到恒定強度控制器,以提供在所需強度的±2%內的曝光強度的控制。可以快速和容易地改變UV波長。該掩模Aligner是一種靈活,經濟的解決方案,適用于任何入門級掩模對準和UV紫外光照射應用.OAI在MEMS和微流體裝置方面的產品主要包括 :  光刻機                                                                                      光源以工作穩定,出光效率高,高均勻性和散射角小而著稱。且可提供 20” 以上的大面積光源。  光功率計及分析儀OAI光功率計以其測量精度,重復性著稱。測量數據符合美國NIST標準。廣泛應用于半導體光刻能量測量及控制。 

OAI 800型光學正面和背面光刻機系統

OAI 800型光學正面和背面光刻機系統

  • 品牌: 美國OAI
  • 型號: OAI 800
  • 產地:美國
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    800型光學正面和背面光刻機系統OAI模型800光刻機是半自動,four-camera、光學正面和背面光刻機。它提供極其精確的(1碌m - 2 m碌)對準精度,旨在大大超過任何紅外背后對準器性能的一個非常有競爭力的價格。通用模型800光刻機是理想的用于低產量、研發實驗室和大學。模型800光刻機配置了各種各樣的的OAI紫外線光源,在權力范圍2千瓦。光刻機工具可以容納基質8英寸廣場,以及晶片卡盤定位允許方便裝卸。這個劃算的光刻機還包括機動背后焦點,電動汽車水準和汽車差距設置。建立在隔振平臺,固定器總成擔保的固定不變的面具對準精度和可重復性。使用易讀的操作簡化,PLC觸摸屏。培訓時間短,操作員可以有效地學習使用光刻機在不到一個小時。

OAI 6000 FSA 全自動上側后側光刻機

OAI 6000 FSA 全自動上側后側光刻機

OAI 5000E 光刻機

OAI 5000E 光刻機

  • 品牌: 美國OAI
  • 型號: OAI 5000E
  • 產地:美國
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    OAI 5000E型大面積掩光刻機是一種先進的高性能,全自動掩模對準器和曝光工具,可為大型平板應用提供超精密,頂級,亞微米對準和分辨率。 其靈活的設計允許在各種基材(圓形或方形)上印刷高達300mm或20“×20”。 曝光系統兼容近,中,或深紫外范圍的光刻膠,并具有計算機控制的LED顯微鏡照明,在不太理想的觀察環境中觀察。

OAI 800FSA 光刻機

OAI 800FSA 光刻機

OAI 2000SM邊緣曝光系統OAI 2000AF曝光系統

OAI 2000SM邊緣曝光系統OAI 2000AF曝光系統

  • 品牌: 美國OAI
  • 型號: OAI 2000SM/OAI 2000AF
  • 產地:美國
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    OAI 2000型曝光系統可以配置為邊緣曝光系統(2000SM)或曝光系統(2000AF);這兩種配置都基于OAI經過驗證的,經過時間測試的平臺。兩種型號的2000型曝光系統包括UV光源,強度控制電源和機器人襯底處理子系統。 UV光源提供發散半角<2.0%的可調強度光束。電源從200W到2,000W。強度控制器傳感器直接連接到光源,用于精確的強度監控。機器人襯底處理系統是微處理器控制的,并且可以被編程以適應各種各樣的襯底尺寸。陰影掩模能力使得用戶能夠在保持非常接近掩模的同時對襯底的頂部進行圖案化。在25微米的分離時,這些系統能夠具有6微米的分辨率。在SM配置中,邊緣珠曝光系統提供了一種經濟有效的方法,使用標準陰影掩模技術進行邊緣珠去除。掩模和基材切換可以快速且容易地實現,從而增加了該大批量生產工具的通用性和生產量。在AF配置中,2000型泛光曝光系統用于增強和/或增強生產和研發環境中的光刻過程。應用包括光刻膠穩定和改性,圖像反轉和PCM工藝。Model 2000SM Edge-bead Exposure SystemModel 2000AF Flood Exposure SystemThe OAI Model 2000 Exposure Systems may be configured as either an edge-bead exposure system (2000SM) or a flood exposure system (2000AF); both configurations are based on OAI's proven, time-tested platform.Both versions of the Model 2000 Exposure System include a UV light source, intensity controlling power supply and robotic substrate handling subsystem. UV light sources provide adjustable intensity beams with divergence half-angles of <2.0%. Power supplies are available from 200W to 2,000W. Intensity controller sensors are linked directly to the light source for accurate intensity monitoring. The robotic substrate handling system is microprocessor controlled and may be programmed to accommodate a wide variety of substrate sizes. The shadow mask capability enables the user to pattern the top of a substrate while being held in very close proximity to the mask. At a separation of 25-microns, these systems are capable of 6-micron resolution.In the SM configuration, the Edge-bead Exposure System provides a cost-effective method for edge-bead removal using standard shadow mask technology. Mask and substrate changeover can be accomplished quickly and easily adding to both versatility and throughput of this high-volume production tool.In the AF configuration, the Model 2000 Flood Exposure System is used to augment, and/or enhance the photolithography processes in both production and R&D environments. Applications include photo resist stabilization and modification, image reversal and PCM processes.

OAI 2012SM 自動化邊緣曝光系統

OAI 2012SM 自動化邊緣曝光系統

  • 品牌: 美國OAI
  • 型號: OAI 2012SM
  • 產地:美國
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    2012SM型自動邊緣曝光系統為使用標準陰影掩模技術的邊緣珠去除提供了一種經濟高效的方法。 設計用于容納8“到300mm的晶片,該工具具有自動FOUP裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現,從而增加該生產工具的通用性和高產量。Automated Edge-Bead Exposure SystemModel 2012SMThe Model 2012SM Automated Edge-bead Exposure Systemprovides a cost-effective method for edge-bead removal using standard shadowmask technology. Designed to accommodate wafers from 8” to 300mm, the tool featuresautomated FOUP loading. Mask and substrate changeover can be accomplishedquickly and easily adding to both versatility and high-volume throughput ofthis production tool.

德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機DWL 2000,DWL 4000

德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機DWL 2000,DWL 4000

  • 品牌: 德國海德堡
  • 型號: DWL 2000/DWL 4000
  • 產地:德國
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    DWL2000和DWL4000激光光刻系統為快速、靈活的高分辨率圖形產生器,用于制作光罩和直寫。這些系統的寫入面積高達200x200mm2與400x400mm2,是MEMS、BioMEMS、Micro Optics、ASICs、Micro Fluidics、Sensors,CGH以及所有其他微結構應用里,需快速構圖于光罩和硅片的完美方案。

FPS 6100多功能掩膜版光刻機

FPS 6100多功能掩膜版光刻機

  • 品牌: 瑞典Mycronic
  • 型號: FPS 6100
  • 產地:瑞典
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    生產效率提高,曝光速度更快,減少輔助操作時間; 畫面質量更優質,更小的成像單位; 6種曝光水平和干板曝光的平臺可擴展性; FPS5100/5300/5500可升級。

美國OAI光刻機及光功率計

美國OAI光刻機及光功率計

  • 品牌: 美國OAI
  • 型號: Model 200/Model 800MBA
  • 產地:美國
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    美國 OAI 光刻機:Model  200 手動曝光機,實驗室用 ,Model 800MBA 雙面曝光機, 實驗室及小批量生產,Model  2000 全自動邊緣曝光系統,生產型Model  5000 全自動曝光機,生產型OAI 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器,采用經過行業驗證的組件,使OAI成為光刻設備行業的領 導者。 200型是臺式面罩對準器,需要最小的潔凈室空間。它為研發,或有限規模,試點生產提供了經濟的替代方案。利用創新的空氣軸承/真空吸盤調平系統,襯底快速平穩地平整,用于平行光掩模對準和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統能夠實現一微米分辨率和對準精度。對準模塊具有掩模插入件組和快速更換晶片卡盤,其便于使用各種襯底和掩模,而不需要用于重新配置的特殊工具。對準模塊包括X,Y和Z軸的微米。200型掩模對準器具有可靠的OAI紫外光源,其在近紫外或深紫外中提供準直的紫外光,使用功率從200至2000瓦的燈。雙傳感器,光學反饋回路連接到恒定強度控制器,以提供在所需強度的±2%內的曝光強度的控制。可以快速和容易地改變UV波長。該掩模Aligner是一種靈活,經濟的解決方案,適用于任何入門級掩模對準和UV紫外光照射應用. OAI在MEMS和微流體裝置方面的產品主要包括 :   光源以工作穩定,出光效率高,高均勻性和散射角小而著稱。且可提供 20” 以上的大面積光源。 光功率計及分析儀OAI光功率計以其測量精度,重復性著稱。測量數據符合美國NIST標準。廣泛應用于半導體光刻能量測量及控制。?

FPS 6100多功能掩膜版光刻機

FPS 6100多功能掩膜版光刻機

  • 品牌: 瑞典Mycronic
  • 型號: FPS 6100
  • 產地:瑞典
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    生產效率提高,曝光速度更快,減少輔助操作時間; 畫面質量更優質,更小的成像單位; 6種曝光水平和干板曝光的平臺可擴展性; FPS5100/5300/5500可升級。

M系列光束筆尖陣列光刻系統

M系列光束筆尖陣列光刻系統

  • 品牌: 美國Tera print
  • 型號: M
  • 產地:加拿大
  • 供應商:北京培科創新技術有限公司

    聚合物筆無掩模光刻納米制造系統(polymer pen lithography)聚合物筆納米無掩模光刻制造系統PPL, 使用可達160000筆尖的陣列,采用蘸筆光刻DPN的方式,將待沉積的材料(墨水)浸蘸在筆尖陣列上,筆尖可控的與基底表面接觸,從而在基底表面批量成型所需圖案,加工納米微米圖案無需光掩膜,且在平方厘米范圍內達到200納米以下的分辨率,可應用于納米粒子合成,蛋白陣列,單細胞排布,納米電路構造、生物芯片、化學檢測、微尺度催化反應、分子馬達等領域。此設備在國際上屬于首個基于聚合物筆光刻(PPL)技術的納米制造系統,PPL技術是美國Tera-print公司獨有的技術。

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