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薄膜測厚儀

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薄膜測厚儀

薄膜測厚儀

薄膜測厚儀又稱為測厚儀、薄膜厚度檢測儀、薄膜厚度儀等,薄膜測厚儀專業適用于量程范圍內的塑料薄膜、薄片、隔膜、紙張、箔片、硅片等各種材料的厚度精確測量。薄膜測厚儀根據其測量方式的不同,可分為:接觸式薄膜測厚儀,非接觸式薄膜測厚儀。非接觸式薄膜測厚儀的出現,大大提高了紙張等片材厚度測量的精度,尤其是在自動化生產線上,得到廣泛應用。
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F20 薄膜厚度測量儀

F20 薄膜厚度測量儀

  • 品牌: 美國Filmetrics
  • 型號: F20
  • 產地:美國
  • 供應商:優尼康科技有限公司

    測量厚度從1nm到10mm的先進膜厚測量系統如果您正在尋找一款儀器,需要測量厚度、測量光學常數或者僅需要測量材料的反射率和穿透率,F20您值得擁有。僅僅幾分鐘內就可以安裝好,通過USB與電腦連接,測量數據結果不到一分鐘就能得到。

薄膜測厚儀

薄膜測厚儀

  • 品牌: 濟南思克
  • 型號: THI-1801
  • 產地:濟南
  • 供應商:濟南思克測試技術有限公司

    包裝檢測儀器,請選思克測試!思克將回報您更多意想不到的操作體驗和服務。思克測試,誠信企業!更多信息,請致電垂詢!SYSTESTER思克,專業+創新+技術+產品+服務;SYSTESTER思克,More than your think!

上海致東全光譜反射率膜厚量測儀

上海致東全光譜反射率膜厚量測儀

上海致東全光譜反射式膜厚測量儀

上海致東全光譜反射式膜厚測量儀

  • 品牌: 上海致東
  • 型號: SR
  • 產地:上海
  • 供應商:致東光電科技(上海)有限公司

    由橢圓儀校正 量測色度坐標 量測時間1-3s ,精確度高 國內自行研發,價格合理 量測膜厚(N.K)值 .量測穿透率(T%).反射率(R%) FFT for very thick layer (up to 50 um)

Filmetrics 薄膜厚度測量系統F20,F30,F40,F50,F60,F3-XXT 系列

Filmetrics 薄膜厚度測量系統F20,F30,F40,F50,F60,F3-XXT 系列

  • 品牌: 美國Filmetrics
  • 型號: F20,F30,F40,F50,F60,F3-XXT 系列
  • 產地:美國
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    只需按下一個按鈕,您在不到一秒鐘的同時測量厚度和折射率。設置同樣簡單, 只需插上設備到您運行Windows?系統計算機的USB端口, 并連接樣品平臺 。

F54 薄膜厚度測量儀

F54 薄膜厚度測量儀

  • 品牌: 美國Filmetrics
  • 型號: F54
  • 產地:美國
  • 供應商:優尼康科技有限公司

    動化薄膜厚度分布圖案系統依靠F54先進的光譜測量系統,可以很簡單快速地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ極坐標移動平臺,可以非常快速的定位所需測試的點并測試厚度,測試非常快速,大約每秒能測試兩點。系統中預設了許多極坐標形、方形和線性的圖形模式,也可以編輯自己需要的測試點。只需掌握基本電腦技術便可在幾分鐘內建立自己需要的圖形模式。

F50 光學膜厚測量儀

F50 光學膜厚測量儀

  • 品牌: 美國Filmetrics
  • 型號: F50
  • 產地:美國
  • 供應商:優尼康科技有限公司

    自動化薄膜厚度繪圖系統Filmetrics F50 系列的產品能以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度。一個電動R-Theta 平臺可接受標準和客制化夾盤,樣品直徑可達450毫米。(耐用的平臺在我們的量產系統能夠執行數百萬次的量測!)測繪圖案可以是極座標、矩形或線性的,您也可以創造自己的測繪方法,并且不受測量點數量的限制。內建數十種預定義的測繪圖案。

F10-AR 薄膜厚度測量儀

F10-AR 薄膜厚度測量儀

  • 品牌: 美國Filmetrics
  • 型號: F10-AR
  • 產地:美國
  • 供應商:優尼康科技有限公司

    F10-AR 是為簡便而經濟有效地測試眼科減反涂層設計的第一臺儀器。 雖然價格大大低于當今絕大多數同類儀器,應用幾項獨家先進技術, F10-AR 使線上操作人員經過幾分鐘的培訓,就可以進行厚度測量。

F60-t 光學膜厚測量儀

F60-t 光學膜厚測量儀

  • 品牌: 美國Filmetrics
  • 型號: F60-t
  • 產地:美國
  • 供應商:優尼康科技有限公司

    依靠 F60光學膜厚測量儀 先進的光譜測量系統,可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度分布圖。采用 r-θ 極坐標移動平臺,可以非常快速的定位所需測試的點并測試厚度,測試非常快速,大約每秒能測試兩點。用戶可以自己繪制需要的點位地圖。在約 45 秒的時間就可以掃描完標準 49 點分布圖。

F32 薄膜厚度測量儀

F32 薄膜厚度測量儀

  • 品牌: 美國Filmetrics
  • 型號: F32
  • 產地:美國
  • 供應商:優尼康科技有限公司

    F32先進的光譜分析系統采用半寬的3U rack-mount底盤,加上附加的分光計,可達到四個不同的位置(EXR和UVX版本最多兩個位置)。F32軟件可以通過數字I/O或主機軟件來控制啟動/停止/復位測量。測量數據可以自動導出到主機軟件中進行統計過程控制。Filmetrics還提供可選的透鏡組件,以便于集成到現有的生產裝置上。

Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀

Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀

  • 品牌: 美國Filmetrics
  • 型號: F3-sX
  • 產地:美國
  • 供應商:優尼康科技有限公司

    F3-sX家族利用光譜反射原理,可以測試眾多半導體及電解層的厚度,可測最大厚度達3毫米。此類厚膜,相較于較薄膜層表面較粗糙且不均勻,F3-sX系列配置10微米的測試光斑直徑因而可以快速容易的測量其他膜厚測試儀器不能測量的材料膜層。而且僅在幾分之一秒內完成。

F10-HC 薄膜厚度測量儀

F10-HC 薄膜厚度測量儀

  • 品牌: 美國Filmetrics
  • 型號: F10-HC
  • 產地:美國
  • 供應商:優尼康科技有限公司

    F10-HC現在能夠執行自動化基準矯正以及設置自己的積分時間這個創新的方法不需要頻繁的執行基準矯正就可以讓使用者立即的執行樣本的測量 。

F10-RT 薄膜厚度測量儀

F10-RT 薄膜厚度測量儀

  • 品牌: 美國Filmetrics
  • 型號: F10-RT
  • 產地:美國
  • 供應商:優尼康科技有限公司

    F10-RT薄膜厚度測量儀同時測量反射和透射以真空鍍膜為設計目標,F10-RT 只要單擊鼠標即可獲得反射和透射光譜。 只需傳統價格的一小部分,用戶就能進行最低/最高分析、確定 FWHM 并進行顏色分析。可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。測量結果能被快速地導出和打印。選擇Filmetrics的優勢? 桌面式薄膜厚度測量的全球領導者? 24小時電話,E-mail和在線支持? 所有系統皆使用直觀的標準分析軟件附 加 特 性? 嵌入式在線診斷方式? 免費離線分析軟件? 精細的歷史數據功能,幫助用戶有效地存儲,重現與繪制測試結果?

F40薄膜厚度測量儀

F40薄膜厚度測量儀

  • 品牌: 美國Filmetrics
  • 型號: F40
  • 產地:美國
  • 供應商:優尼康科技有限公司

    Filmetrics的精密光譜測量系統讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學常數,通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析,幾秒鐘內就可測量結果。當測量需要在待測樣品表面的某些微小限定區域進行,或者其他應用要求光斑小至1微米時,F40是最好的選擇。

色差儀

色差儀

  • 品牌: 廣州蘭泰
  • 型號: CM-200S
  • 產地:廣州
  • 供應商:廣州蘭泰儀器有限公司

    顏色差異顯示△(L*,a*,b*),△(E*ab,C*ab,H*ab),△Y,x,y),△(X,Y,Z),△(Rs,Gs,Bs)或△(WI,YI,Tw)。 * 色彩空間顯示(L*,a*,b*),(L*,C*ab, hab),(Y,x,y),X,Y,Z),(Rs,Gs,Bs)或(WI,YI,Tw)。 * 統計功能(最大值、最小值、平均值及標準偏差)。 * 可設置的顏色差異允許誤差判斷PASS/WARN/FAIL。 * 可存入9個目標顏色。 * 使用者校正功能確保高準確性。 * 自動記憶(99組)及讀取功能。 * 數字背光顯示,無視差。 * 自動關機功能。 * 采用USB數據線輸出,與PC連接。 * 提供藍牙 Bluetooth 數據輸出選擇。

薄膜測厚儀

薄膜測厚儀

  • 品牌: 希臘ThetaMetrisis
  • 型號: FR- Pro UV/NIR-HR
  • 產地:希臘
  • 供應商:武漢邁可諾科技有限公司

    干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動,而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質折射率的變化引起,所以通過干涉條紋的移動變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量,從而測得與此有關的其他物理量。測量精度決定于測量光程差的精度,干涉條紋每移動一個條紋間距,光程差就改變一個波長(~10-7米),所以干涉儀是以光波波長為單位測量光程差的,其測量精度之高是任何其他測量方法所無法比擬的。   1 、非接觸式測量:避免物件受損。   2 、三維表面測量:表面高度測量范圍為12nm - 120μm。    3 、多重視野鏡片:方便物鏡的快速切換。   4 、納米級分辨率:垂直分辨率可以達0.1nm。   5、高速數字信號處理器:實現測量僅需幾秒鐘。   6 、掃描儀:閉環控制系統。   7、工作臺:氣動裝置、抗震、抗壓。   8 、測量軟件:基于windows 操作系統的用戶界面,強大而快速的運算型號光譜范圍測厚范圍FR-Pro UV/VIS 200nm - 850nm 1nm - 80μm FR-Pro VIS/NIR 350nm – 1000nm 12nm - 120μm FR-Pro UV/NIR-HR  200nm - 1100nm1nm - 120μm FR-Pro RED/NIR700nm - 950nm 200nm - 250μm FR-Pro UV/NIR-EXT200nm - 1000nm 3nm - 80μm FR-Pro NIR900nm - 1700nm 100nm - 200μm FR-Pro D VIS/NIR 350nm - 1700nm 12nm - 300μm FR-Pro D UV/NIR200nm – 1700nm 1nm – 300μm

便攜式光學膜厚儀

便攜式光學膜厚儀

  • 品牌: 希臘ThetaMetrisis
  • 型號: FR-Portable
  • 產地:希臘
  • 供應商:武漢邁可諾科技有限公司

    FR-portable 便攜式膜厚儀主要由以下系統組成:Α白熾-LED混合集成式光源系統,通過內嵌式微處理器控制,使用壽命超過20000小時。小型光譜儀,光譜范圍370nm –1050nm,分辨精度可達3648像素, 16位級 A/D 分辨精度;配有USB通訊接口;Β)   FR-Monitor膜厚測試軟件系統,可精確計算如下參數:1)單一或堆積膜層的厚度; 2)靜態或動態模式下,單一膜層的折射率;本軟件包含了類型豐富的材料折射率數據庫,可以有效地協助用戶進行線下或者在線測試分析。本系統可支持吸收率,透射率和反射率的測量,還提供任何堆積膜層的理論性反射光譜,一次使用授權,即可安裝在任何其他電腦上作膜厚測試后的結果分析使用。C)   參考樣片:a)   經校準過的反射標準硅片;b)   經校準過的帶有SiO2/Si 特征區域的樣片;c)   經校準過的帶有Si3N4/SiO2/Si特征區域的樣片;D)   反射探針臺和樣片夾具可處理最大的樣品尺寸達200mm, 包含不規則的尺寸等;手動調節可測量高度可達50mm;可針對更大尺寸訂制樣片夾具;Ε)   反射率測量的光學探針內嵌系統6組透射光探針200μm, 1組反射光探針200μm;F) 附件FR-portable透射率測量套件;Thickness     measurement range12nm     – 90μmRefractive Index calculationPThickness     measurement Accuracy0.2%     or 1nmThickness measurement Precision0.04nm or 1‰ (0.01nm)Thickness     measurement stability0.02nmSample size1mm to 200mm and upSpectral     Range400nm     – 1100nmWorking distance3mm-20mmSpot size0.35mm (diameter of the reflectance     area)Light Source Lifetime20000hWavelength resolution0.8nmNumber of Layers MeasuredMax. 5 layersMeasurement time (max acquisition     speed)10ms/pointA/D converter16 bitPowerUSB – suppliedDimensions300mm x 110mm x 40mm

掃描型光學膜厚儀

掃描型光學膜厚儀

  • 品牌: 希臘ThetaMetrisis
  • 型號: FR-Scanner
  • 產地:希臘
  • 供應商:武漢邁可諾科技有限公司

    FR-Scanner   掃描型光學膜厚儀主要由以下系統組成:A)    光學光源裝置小型低功率混合式光源本系統混合了白熾燈和LED燈,最終形成光譜范圍360nm-   1100nm;該光源系統通過微處理控制,光源平均壽命逾10000小時;集成小型光譜儀,光譜范圍360-1020nm,分辨精度 3648像素CCD 和 16位 A/D 分辨精度.集成式反射探針,6組透射光探針(200um),1組反射光探針,探針嵌入光源頭,可修整位置,確保探針無彎曲操作;光源功率:3W;B)    超快掃描系統,平面坐標內,可進行625次測量/分鐘 (8’’ wafer) 或500次測量/分鐘(300mm   wafer). 全速掃描時,掃描儀的功率消耗不超過200W;樣品處理臺:最大樣品處理尺寸可達300mm. 可滿足所有半導體工藝要求的晶圓尺寸。手動調節測量高度可達25mm;配有USB通訊接口,功率:100 - 230V 115W.C)   FR-Monitor膜厚測試軟件系統,可精確計算如下參數:1)單一或堆積膜層的厚度; 2)靜態或動態模式下,單一膜層的折射率;本軟件包含了類型豐富的材料折射率數據庫,可以有效地協助用戶進行線下或者在線測試分析。本系統可支持吸收率,透射率和反射率的測量,還提供任何堆積膜層的理論性反射光譜,一次使用授權,即可安裝在任何其他電腦上作膜厚測試后的結果分析使用。D) 參考樣片: a) 經校準過的反射標準硅片;b) 經校準過的帶有SiO2/Si 特征區域的樣片;E) 附件可定制適用于半導體工藝的任何尺寸的晶圓片(2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 200mm, 300mm)

廣州蘭泰涂層測厚儀

廣州蘭泰涂層測厚儀

  • 品牌: 廣州蘭泰
  • 型號: 微涂層測厚儀 CM-1210-200N (鋁基,微涂層)
  • 產地:廣州
  • 供應商:廣州蘭泰儀器有限公司

    專用于微小工件上的涂層測量。 * 非鐵基涂層測厚儀。 * 具有單次和連續兩種測量方式可選。 * 公/英制單位轉換。 * 具有手動關機、自動關機和欠壓提示等功能。 * 自動記憶校準值和自動識別被測基體的材質。

FSM - 應力及厚度在線量測系統

FSM - 應力及厚度在線量測系統

  • 品牌: 美國Frontier Semiconductor
  • 型號: FSM 900 系列/FSM 128 系列
  • 產地:美國
  • 供應商:香港電子器材有限公司

    產品簡介FSM 900 系列新型材料在高溫下很容易氧化。他們還容易產生氣體及發生物質變化,FSM 900TC-Vac 型號給工藝提供了一個封閉的加熱腔。它可以應用於完全的充氣環境或高真空的模式。集成化的 FSM 900TC-Vac 系統可以快速協助新材料處理熱穩定和熱負載。? 溫度範圍: 可達9000C (200mm 及 300mm晶圓)? Thermal Desorption Spectroscopy (TDS -系統可以起獨立的TDS作用- 分析整個或破損的晶圓,監測在溫度循壞內的各種各樣的氣體排放。? 低K,銅和其他薄膜材料的表徵? 溫度高達9000C? 在真空或惰性氣體中操作  FSM 128 系列所有FSM 128 系列都可以配備自動平均基板厚度測量功能,以評估用於應力評估的輸入晶圓。? 128NT : 可以測試200mm以下的晶圓? 128L :可以測試300mm以下的晶圓? 128G :可以測試450mm以下的晶圓? 128 C2C: 彈夾到彈夾的全自動設備,可以測量300mm以下的晶圓? 半導體和平板應用的弓型和球型薄膜應力繪圖? 非接觸全晶片應力繪圖? 雙波長雷射器交換技術  尺寸精度量測 (DIMENSIONAL METROLOGY)無損的光學探頭檢測晶圓厚度,TSV,bumps 和其他需要測量的需求。FSM 8108 VITE 系列 ? 晶圓的厚度,薄膜的厚度及TTV? 絕對厚度,形狀,翹曲? Si, GaAs 等? 磁帶,玻璃,藍寶石 等? 多種材料的Stacks? Through Silicon Via (TSV) - 顯微鏡下可選 TSV的測量及Trench 深度測量? Bumps 的高度測量? 可選粗糙度的刻蝕或拋光的晶圓的測量? 可選薄膜厚度的測量FSM 413 系列? 使用非接觸式的測量方式來量測基板的厚度? XY方向精度達到0.5微米? 自動化的系統? 可編程的系統? 可測量TSV和Bump? 用微波形式測量矽的深度? 極佳的穩定性及重複性FSM 拉曼優勢創新技術及工具自動化? 帶領技術創新的緊湊型量測系統? 用於設備分析方面,性能優越的光譜解析度 (0.1cm-1)? 由1988年開始,在晶圓工廠自動化中成功地控制測量技術      

RoHS檢測儀器/無鹵檢測儀

RoHS檢測儀器/無鹵檢測儀

  • 品牌: 深圳禾苗
  • 型號: E8-SDD
  • 產地:深圳
  • 供應商:深圳市禾苗分析儀器有限公司

    HeLeeX E8是一款專門RoHS檢測儀器,其核心光路系統集合國內外幾十年EDXRF尖端技術,核心部件采用美國進口,軟件算法采用美國EDXRF前沿技術,儀器所用標準樣品均有權威第三方檢測機構報告;HeLeeXE8精密度高、準確度、檢出限等技術參數全面超過國內外同類儀器。

C11295 多點納米膜厚測量儀

C11295 多點納米膜厚測量儀

  • 品牌: 北京濱松光子
  • 型號: C11295
  • 產地:日本
  • 供應商:濱松光子學商貿(中國)有限公司

    C11295 多點納米膜厚測量儀C11295型多點納米膜厚測量系統使用光譜相干測量學,用以測量半導體制造過程中的薄膜厚度,以及安裝在半導體制造設備上的APC和薄膜的質量控制。C11295可進行實時多點測量,也可以在膜厚測量中同時測量反射率(透射率)、目標顏色以及暫時變化。歡迎您登陸濱松中國全新中文網站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產品更多詳細信息!特性多達15點同時測量無參照物工作通過光強波動校正功能實現長時間穩定測量提醒及警報功能(通過或失敗)反射(透射)和光譜測量高速、高準確度實時測量不整平薄膜精確測量分析光學常數(n,k)可外部控制參數型號C11295-XX*1可測膜厚范圍(玻璃)20 nm to 100 μm*2測量可重復性(玻璃)0.02 nm*3 *4測量準確度(玻璃)±0.4 %*4 *5光源氙燈測量波長320 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4工作距離10 mm*4可測層數最多10層分析FFT 分析,擬合分析測量時間19 ms/點*7光纖接口形狀SMA測量點數2~15外部控制功能Ethernet接口USB 2.0(主單元與電腦接口)RS-232C(光源與電腦接口)電源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗約330W(2通道)~450W(15通道)*1:-XX,表示測點數*2:以 SiO2折射率1.5來轉換*3:測量400 nm 厚SiO2 薄膜的標準偏差*4:取決于所使用的光學系統或物鏡的放大率*5:可保證的測量范圍列在VLSI標準測量保證書中*6:鹵素燈型為C11295-XXH*7:連續數據采集時間不包括分析時間

C11665-01 微米膜厚測量儀

C11665-01 微米膜厚測量儀

  • 品牌: 北京濱松光子
  • 型號: C11665-01
  • 產地:日本
  • 供應商:濱松光子學商貿(中國)有限公司

    C11665-01 微米膜厚測量儀C11665-01型光學微米測厚儀是一款非接觸薄膜測厚儀器,它將光源、探測器和數據分析模塊集成到一個箱體里,實現了緊湊型設計。在半導體行業,TSV技術的廣泛應用使得基底測厚成為至關重要的方面,與此同時半導體薄膜工業正將連接層制作的越來越薄。這些領域的進步需要1 μm到300 μm范圍內高準確度的膜厚測量。C11665-01可對多種類型的材料(硅基底,薄膜等等)進行測厚,測量范圍為0.5 μm 到 700 μm,這也是半導體和薄膜制造領域經常使用應用的厚度。歡迎您登陸濱松中國全新中文網站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產品更多詳細信息!特性無參照物工作尺寸緊湊,節省空間高速、高準確度不整平薄膜精確測量分析光學常數(n,k)可外部控制參數型號C11665-01可測膜厚范圍(玻璃)0.5 μm to 700 μm*1可測膜厚范圍(硅)0.5 μm to 300 μm*2測量可重復性(硅)0.1 nm*3 *4測量準確度(硅)±1 %*4 *5光源LED測量波長940 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4工作距離5 mm*4可測層數最大10層分析FFT 分析,擬合分析,光學常數分析測量時間19 ms/點*6光纖接口形狀FC外部控制功能RS-232C / Ethernet電源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗85W*1:SiO2薄膜測量特性*2:Si薄膜測量特性*3:測量6 μm厚硅薄膜時的標準偏差*4:取決于所使用的光學系統或物鏡的放大率*5:在標準量具的測量保證范圍內*6:連續數據采集時間不包括分析時間

C11011-01W 微米膜厚測量儀

C11011-01W 微米膜厚測量儀

  • 品牌: 北京濱松光子
  • 型號: C11011-01W
  • 產地:日本
  • 供應商:濱松光子學商貿(中國)有限公司

    C11011-01W 微米膜厚測量儀C11011-01W型光學微米膜厚測量儀利用激光相干度量學原理,測量速度達60Hz,適用于產品線上在線測量。此外,選配的映射系統可以測量指定樣品的厚度分布。C11011-01W應用廣泛,比如用于產品制造過程監控或質量控制。歡迎您登陸濱松中國全新中文網站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產品更多詳細信息!特性利用紅外光度測定進行非透明樣品測量測量速度高達60 Hz測量帶圖紋晶圓和帶保護膜的晶圓長工作距離映射功能可外部控制參數型號C11011-01W可測膜厚范圍(玻璃)25 μm to 2900 μm*1可測膜厚范圍(硅)10 μm to 1200 μm*2測量可重復性(硅)100 nm*3測量準確度(硅)< 500 μm: ±0.5 μm; > 500 μm: ±0.1 %*3光源紅外LED(1300 nm)光斑尺寸φ60 μm*4工作距離155 mm*4可測層數一層(也可多層測量)分析峰值探測測量時間22.2 ms/點*5外部控制功能RS-232C / PIPE接口USB2.0電源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗50W*1:SiO2薄膜測量特性*2:Si薄膜測量特性*3:測量6 μm厚硅薄膜時的標準偏差*4:可選配1000mm工作距離的模型C11011-01WL*5:連續數據采集時間不包括分析時間

C11627-01 納米膜厚測量儀系列

C11627-01 納米膜厚測量儀系列

  • 品牌: 北京濱松光子
  • 型號: C11627-01
  • 產地:日本
  • 供應商:濱松光子學商貿(中國)有限公司

    C11627-01 納米膜厚測量儀系列C11627-01型光學膜厚測量儀是一款利用光譜相干度量學工作的非接觸型膜厚測量系統。因其將光源、分光光度計和數據分析單元集成為一個單元,所以其配置緊湊,僅由一個主單元和光纖組成。此儀器設計緊湊,節省空間,適合安裝進用戶的系統中,可進行多種目標的測量。此外,該儀器為無參照物測量,因此省略了煩人的參照物測量,可長時間穩定地進行高速、高準確度測量。歡迎您登陸濱松中國全新中文網站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產品更多詳細信息!特性無參照物工作尺寸緊湊,節省空間高速、高準確度不整平薄膜精確測量分析光學常數(n,k)可外部控制參數型號C11627-01可測膜厚范圍(玻璃)20 nm to 50 μm*1測量可重復性(玻璃)0.02 nm*2 *3測量準確度(玻璃)±0.4 %*3 *4光源LED測量波長420 nm to 720 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距離10 mm*3可測層數最多10層分析FFT 分析,擬合分析,光學常數分析測量時間19 ms/點*5光纖接口形狀FC外部控制功能RS-232C,Ethernet電源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗70W*1:以 SiO2折射率1.5來轉換*2:測量400 nm 厚SiO2 薄膜的標準偏差*3:取決于所使用的光學系統或物鏡的放大率*4:可保證的測量范圍列在VLSI標準測量保證書中*5:連續數據采集時間不包括分析時間

C10178-01 納米膜厚測量儀系列

C10178-01 納米膜厚測量儀系列

  • 品牌: 北京濱松光子
  • 型號: C10178-01
  • 產地:日本
  • 供應商:濱松光子學商貿(中國)有限公司

    C10178-01 納米膜厚測量儀系列C10178-01型光學膜厚測量儀是一款利用光譜相干度量學工作的非接觸型膜厚測量系統。通過光譜相干,可快速、高靈敏度、高準確度地測量膜厚。由于使用我公司的光子多通道分析儀(PMA)為探測器,在測量多種濾光片、鍍膜等的膜厚的同時,還可以測量量子收益、反射率、透射率以及吸收系數等多種項目。歡迎您登陸濱松中國全新中文網站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產品更多詳細信息!特性高速、高準確度實時測量映射功能不整平薄膜精確測量分析光學常數(n,k)可外部控制與特定附件配合,可測量量子收益、反射率、透射率以及吸收系數等。參數型號C10178-01測量模型標準型(通用測量)可測膜厚范圍(玻璃)20 nm to 50 μm*1測量可重復性(玻璃)0.01 nm*2 *3測量準確度(玻璃)±0.4 %*3 *4光源鹵素燈測量波長400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距離10 mm*3可測層數最多10層分析FFT 分析,擬合分析,光學常數分析測量時間19 ms/點*5光纖接口形狀φ12套筒型外部控制功能RS-232C, 通過PIPE或Ethernet進行內部軟件數據傳輸接口USB2.0電源AC100 V to 120 V/ AC200 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗250W*1:以 SiO2折射率1.5來轉換*2:測量400 nm 厚SiO2 薄膜的標準偏差*3:取決于所使用的光學系統或物鏡的放大率*4:可保證的測量范圍列在VLSI標準測量保證書中*5:連續數據采集時間不包括分析時間

C12562 納米膜厚測量儀系列

C12562 納米膜厚測量儀系列

  • 品牌: 北京濱松光子
  • 型號: C12562
  • 產地:日本
  • 供應商:濱松光子學商貿(中國)有限公司

    C12562 納米膜厚測量儀系列C12562型光學膜厚測量儀是一款利用光譜相干度量學工作的非接觸型膜厚測量系統。光學膜厚測量儀系列可以測量薄至10nm的薄膜,而可測范圍達到10nm到1100μm,因此可用來測量多種目標。此外,該測量儀可達到100Hz的高速測量,因此可進行快速移動的產品線進行測量。歡迎您登陸濱松中國全新中文網站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產品更多詳細信息!特性可測量10nm薄膜縮短測量周期(頻率高達100Hz)增強型外部觸發(適合高速測量)涵蓋寬波長范圍(400 nm到1100 nm)軟件增加了簡化測量功能可進行雙面分析不整平薄膜精確測量分析光學常數(n,k)可外部控制參數型號C12562-02可測膜厚范圍(玻璃)10 nm to 100 μm*1測量可重復性(玻璃)0.02 nm*2 *3測量準確度(玻璃)±0.4 %*3 *4光源鹵素燈測量波長400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距離10 mm*3可測層數最多10層分析FFT 分析,擬合分析,光學常數分析測量時間3 ms/點*5光纖接口形狀FC外部控制功能RS-232C, Ethernet電源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗80W*1:以 SiO2折射率1.5來轉換*2:測量400 nm 厚SiO2 薄膜的標準偏差*3:取決于所使用的光學系統或物鏡的放大率*4:可保證的測量范圍列在VLSI標準測量保證書中*5:連續數據采集時間不包括分析時間

廣州蘭泰薄膜測厚儀粗糙度儀 SRT-6210S (Ra/Rz/Rq/Rt)

廣州蘭泰薄膜測厚儀粗糙度儀 SRT-6210S (Ra/Rz/Rq/Rt)

  • 品牌: 廣州蘭泰
  • 型號: 粗糙度儀 SRT-6210S (Ra/Rz/Rq/Rt)
  • 產地:廣州
  • 供應商:廣州蘭泰儀器有限公司

    儀器采用計算機技術,符合國標GB/T 6062及ISO,DIN,ANSI和JIS四項標準。測量工件表面粗糙度時,將傳感器放在工件被測面上,由儀器內部的驅動機構帶動傳感器沿被測表面做等速滑行,傳感器通過內置的銳利觸針感受被測表面粗糙度,此時工件被測表面的粗糙度引起觸針產生位移,該位移使傳感器電感線圈的電感量發生變化,從而在相敏整流器的輸出端產生與被測表面粗糙度成比列的模擬信號,該信號經過放大及電平轉換之后進入數據采集系統,DSP芯片將采集的數據進行數字濾波和參數計算,測量結果在液晶顯示器顯示出來,同時可以與PC機通訊,實現數據分析和打印。

供應RoHS檢測儀器/無鹵檢測儀

供應RoHS檢測儀器/無鹵檢測儀

  • 品牌: 深圳禾苗
  • 型號: E8-SDD
  • 產地:深圳
  • 供應商:深圳市禾苗分析儀器有限公司

    HeLeeX E8是一款專門RoHS檢測儀器,其核心光路系統集合國內外幾十年EDXRF尖端技術,核心部件采用美國進口,軟件算法采用美國EDXRF前沿技術,儀器所用標準樣品均有權威第三方檢測機構報告;HeLeeXE8精密度高、準確度、檢出限等技術參數全面超過國內外同類儀器。

供應RoHS檢測儀器/無鹵檢測儀

供應RoHS檢測儀器/無鹵檢測儀

  • 品牌: 深圳禾苗
  • 型號: E8
  • 產地:深圳
  • 供應商:深圳市禾苗分析儀器有限公司

    HeLeeX E8是一款專門RoHS檢測儀器,其核心光路系統集合國內外幾十年EDXRF尖端技術,核心部件采用美國進口,軟件算法采用美國EDXRF前沿技術,儀器所用標準樣品均有權威第三方檢測機構報告;HeLeeXE8精密度高、準確度、檢出限等技術參數全面超過國內外同類儀器。

供應RoHS檢測儀器、無鹵檢測儀

供應RoHS檢測儀器、無鹵檢測儀

  • 品牌: 深圳禾苗
  • 型號: E8
  • 產地:深圳
  • 供應商:深圳市禾苗分析儀器有限公司

    HeLeeX E8是一款專門RoHS檢測儀器,其核心光路系統集合國內外幾十年EDXRF尖端技術,核心部件采用美國進口,軟件算法采用美國EDXRF前沿技術,儀器所用標準樣品均有權威第三方檢測機構報告;HeLeeXE8精密度高、準確度、檢出限等技術參數全面超過國內外同類儀器。

美國布魯克臺階儀

美國布魯克臺階儀

  • 品牌: 德國布魯克
  • 型號: DektakXT
  • 產地:美國
  • 供應商:北京亞科晨旭科技有限公司

    納米尺度的表面輪廓測量、薄膜厚度測量、表面形貌測量、應力測量和平整度等精密測量,應用于微電子、半導體、太陽能、高亮度LED、觸摸屏、醫療、科學研究和材料科學領域

眾測薄膜測厚儀THK-01

眾測薄膜測厚儀THK-01

  • 品牌: 濟南眾測
  • 型號: THK-01
  • 產地:濟南
  • 供應商:濟南眾測機電設備有限公司

    ★測頭采用標準M2.5螺紋連接方式,可連接各種形式百分表,千分表表頭進行測量; ★可拆卸螺紋連接配重塊,可滿足各種標準要求及非標壓力定制; ★嵌入式高速微電腦芯片控制,簡潔高效的人機交互界面,為用戶提供舒適流暢的操作體驗 ★標準化,模塊化,系列化的設計理念,可最大限度的滿足用戶的個性化需求 ★觸控屏操作界面 ★7寸高清彩色液晶屏,實時顯示測試數據及曲線 ★進口高速高精度采樣芯片,有效保證測試準確性與實時性 ★內置微型打印機,可實現實時歷史數據打印功能 ★標準的RS232接口,便于系統與電腦的外部連接和數據傳輸 ★嚴格按照標準設計的接觸面積和測量壓力,同時支持各種非標定制 ★高精度測厚傳感器,精度高重現性好 ★可采用標準厚度計量工具標定、檢驗 ★多種測試量程可選 ★實時顯示測量結果的最大值、最小值、平均值以及標準偏差等分析數據,方便用戶進行判斷

ThetaMetrisis薄膜測厚儀

ThetaMetrisis薄膜測厚儀

  • 品牌: 希臘ThetaMetrisis
  • 型號: FR-Basic UV/VIS
  • 產地:希臘
  • 供應商:武漢邁可諾科技有限公司

    品牌:西塔名詞:膜厚儀   膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動,而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質折射率的變化引起,所以通過干涉條紋的移動變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量,從而測得與此有關的其他物理量。測量精度決定于測量光程差的精度,干涉條紋每移動一個條紋間距,光程差就改變一個波長(~10-7米),所以干涉儀是以光波波長為單位測量光程差的,其測量精度之高是任何其他測量方法所無法比擬的。應用領域:   1、半導體晶片   2、液晶產品(CS,LGP,BIU)    3、微機電系統   4、光纖產品   5、數據存儲盤(HDD,DVD,CD)   6、材料研究   7、精密加工表面   8、生物醫學工程產品特點1 、非接觸式測量:避免物件受損。   2 、三維表面測量:表面高度測量范圍為 2nm ---500μm。    3 、多重視野鏡片:方便物鏡的快速切換。   4 、納米級分辨率:垂直分辨率可以達0.1nm。   5、高速數字信號處理器:實現測量僅需幾秒鐘。   6 、掃描儀:閉環控制系統。   7、工作臺:氣動裝置、抗震、抗壓。   8 、測量軟件:基于windows 操作系統的用戶界面,強大而快速的運算型號光譜范圍測厚范圍FR-Pro UV/VIS 200nm - 850nm 1nm - 80μm FR-Pro VIS/NIR 350nm – 1000nm 12nm - 120μm FR-Pro UV/NIR-HR  200nm - 1100nm1nm - 120μm FR-Pro RED/NIR700nm - 950nm 200nm - 250μm FR-Pro UV/NIR-EXT200nm - 1000nm 3nm - 80μm FR-Pro NIR900nm - 1700nm 100nm - 200μm FR-Pro D VIS/NIR 350nm - 1700nm 12nm - 300μm FR-Pro D UV/NIR200nm – 1700nm 1nm – 300μm

聚酯膜觸摸屏測厚儀操作簡單

聚酯膜觸摸屏測厚儀操作簡單

  • 品牌: 濟南思克
  • 型號: THI-1801
  • 產地:濟南
  • 供應商:濟南思克測試技術有限公司

    更多聚酯膜觸摸屏測厚儀操作簡單信息,請致電垂詢!SYSTESTER思克,專業+創新+技術+產品+服務;SYSTESTER思克,More than your think!

PVD/CVD涂層(鍍層)磨損率測試儀

PVD/CVD涂層(鍍層)磨損率測試儀

  • 品牌: 奧地利安東帕
  • 型號: CAW
  • 產地:奧地利
  • 供應商:奧地利安東帕(中國)有限公司

    產品簡介球磨型膜厚測試儀Calotest為您提供簡單快速并且低成本的膜厚測量方法。一個半徑精確已知的磨球由自身重力作用于鍍膜試樣表面并進行自轉。在測試過程中,磨球與試樣的相對位置以及施加于試樣的壓力保持恒定。磨球與試樣間的相對運動以及金剛石顆粒研磨液的共同作用將試樣表面磨損出一球冠形凹坑。隨后的金相顯微鏡觀測可以獲得磨損坑內涂層和基體部分投影面積的幾何參數。在得知了X和Y的長度后,涂層的厚度D可以通過簡單的幾何公式計算得出。 膜厚及磨損測試儀Calowear將這個原理更加深了一步。通過監測球體施加在試樣上的載荷,我們可以更好的控制薄膜的磨損。研磨液以恒定速率自動滴加在球體與試樣界面,構成一個穩定的三體磨損系統。 Calowear不是一次性的磨損試樣表面,而是將磨損過程分成幾個不同的階段來完成。磨損坑的形狀以及法向力的數值在每階段的磨損后進行記錄。由此,薄膜以及基體的磨損率可以精確的計算出來。 技術參數:工作臺尺寸: 50 x 50 mm 轉動速率: 60 to 1200 rpm 標準磨球直徑: 20, 25, 30mm 磨損時間范圍: 10 - 90 sec or 1 - 9 min主要特點:薄膜與基體的磨損率測量 膜厚測量 適用于多種材料 可以導出數據進行更深入分析(例如: EXCEL 等)

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